Der Einfluss der Tantal -Drahtreinheit auf die Herstellung von Halbleiterwafer

Tantal hat eine Reihe hervorragender Eigenschaften wie hoher Schmelzpunkt, niedriger Dampfdruck, gute kalte Arbeitsleistung, hohe chemische Stabilität, starke Resistenz gegen flüssige Metallkorrosion und hohe Dielektrikumskonstante des Oberflächenoxidfilms. Daher verfügt Tantal über wichtige Anwendungen in High-Tech-Bereichen wie Elektronik, Metallurgie, Stahl, Chemieingenieurwesen, Hardlegierungen, Atomenergie, supraleitende Technologie, Automobilelektronik, Luft- und Raumfahrt, Gesundheitswesen und wissenschaftliche Forschung.
50% -70% von Tantal in der Welt werden verwendet, um Tantal -Kondensatoren in Form von Tantal -Pulver und Tantal -Draht von Kondensatorgrad zu machen. Aufgrund des dichten und stabilen amorphen Oxidfilms, der auf der Oberfläche von Tantal gebildet wird, die eine hohe dielektrische Festigkeit aufweist, ist es einfach, den Anodisierungsverfahren von Kondensatoren genau und bequem zu steuern. Gleichzeitig können Tantal -Pulver -Sinterblöcke eine große Oberfläche in einem sehr kleinen Volumen erhalten. Daher weisen Tantal -Kondensatoren eine hohe Kapazität, einen geringen Leckstrom, einen niedrigen äquivalenten Serienwiderstand, gute und niedrige Temperatureigenschaften, eine lange Lebensdauer, eine hervorragende umfassende Leistung auf und sind schwer mit anderen Kondensatoren zu vergleichen. Sie werden in Branchen- und Technologiesektoren wie Kommunikation (Switches, Mobiltelefone, Pager, Faxgeräte usw.), Computer, Automobile, Haushalts- und Bürogeräte, Instrumente und Meter, Luft- und Raumfahrt, Verteidigung und Militärindustrien häufig eingesetzt. Tantal ist also ein äußerst vielseitiges Funktionsmaterial.