Wolfram-Sputtertarget
Schmelzpunkt: 3410 ± 20 Grad
Dichte: 19,1 g/cm³
Mindestbestellmenge: 1 kg
Größe: Anpassbar
Bauzeit: 3-5 Tage auf Lager, 30 Tage individuell
Produktbeschreibung
Unser Unternehmen bietet qualitativ hochwertige Wolfram-Sputtertargets und Legierungen. Wir wählen den geeigneten Produktionsprozess, um die Produkte entsprechend Ihren spezifischen Anwendungsanforderungen herzustellen. Unsere Sputtertargets sind in einer umfassenden Auswahl an Zusammensetzungen, Reinheitsgraden, Formen und Abmessungen erhältlich. Zu den gängigsten Formen von Zielen gehören beispielsweise runde, rechteckige, ringförmige und röhrenförmige Ziele. Abhängig von der Größe des Ziels und den Eigenschaften des Materials bestehen sie aus ein- oder mehrteiligen Konstruktionen. Wir können es an Ihre Bedürfnisse anpassen.
Wolfram-Sputtertarget
Hoher Schmelzpunkt und hohe Temperaturbeständigkeit
Wolfram ist ein Metall mit hohem Schmelzpunkt. Das Wolfram-Sputtertarget kann auch in Umgebungen mit hohen Temperaturen eine stabile Struktur und Leistung beibehalten und ist nicht leicht zu schmelzen, zu verformen und andere Probleme zu verursachen. Der Prozess der Sputterbeschichtung muss in einer Umgebung mit höherer Temperatur und höherer Energie durchgeführt werden, und das Wolframtarget kann solch hohen Temperaturbedingungen standhalten, um einen reibungslosen Ablauf des Beschichtungsprozesses zu gewährleisten.
Hohe Dichte und gute Sputterleistung
Nach dem Sintern und Schmieden weist das Wolframtarget eine gute Sputterleistung auf. Beim Sputtern entweichen die Atome oder Atomgruppen auf der Oberfläche des Targets unter dem Beschuss mit hochenergetischen Partikeln, und das hochdichte Wolframtarget kann mehr Atome liefern, wodurch die Anzahl der gesputterten Partikel zunimmt und die Energie höher ist. Dadurch wird die Effizienz und Qualität der Beschichtung verbessert. Darüber hinaus wird durch die hohe Dichte auch die Struktur des Wolframtargets kompakter, wodurch Fehler und Inhomogenitäten reduziert werden, die beim Sputtern auftreten können.
Produktpräsentation
Einsatzszenario eines Wolfram-Sputtertargets
Baoji Hanz Metallmaterial Co., LTD
LCD
Im LCD-Herstellungsprozess kann Wolframtarget zur Herstellung von Dünnschichttransistor-Elektrodenmaterial (TFT) verwendet werden. TFT ist eine Schlüsselkomponente von LCD. Es steuert die Rotation von Flüssigkristallmolekülen, um die Anzeige von Bildern zu erreichen.
Herstellung von Komponenten für integrierte Schaltkreise
Es wird zur Herstellung von Gate-Elektroden, Verbindungsleitungen und Diffusionsbarriereschichten von integrierten Halbleiterschaltungen verwendet.
Physikalische Gasphasenabscheidung mit Elektronenstrahl
Hierbei handelt es sich um einen wichtigen Prozess in der Halbleiterherstellung. Dabei wird Wolframtarget als Rohmaterial verdampft und auf dem Halbleitersubstrat abgeschieden, wodurch eine Vielzahl dünner Filmstrukturen wie leitende Filme, isolierende Filme usw. gebildet werden.
Bereich Solarenergie
Bei der Herstellung von Solarzellen können Wolframtargets zur Herstellung von Elektroden, Reflektoren oder anderen Funktionsfilmen für Solarzellen verwendet werden.
Bereich medizinische Geräte
In einigen medizinischen Geräten wie Röntgenröhren, Strahlentherapiegeräten usw. werden Wolframtargets verwendet, um Röntgenstrahlen oder andere radioaktive Strahlen zu erzeugen.
Bereich der Beschichtungsvorbereitung
Es wird zur Herstellung von Hartmetall-, Siliziumkarbid- und anderen Keramikbeschichtungen verwendet, die sich durch hohe Härte, hohe Verschleißfestigkeit und hohe Temperaturbeständigkeit auszeichnen, und kann auf die Oberfläche von Werkzeugen, Formen, mechanischen Teilen usw. aufgetragen werden, um deren Verbesserung zu verbessern Lebensdauer und Leistung.
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