
Reinheits-Titan-Planar-Sputtertarget
Hoher Schmelzpunkt: 1668 Grad
Geringe Dichte: ca. 4,5 g/cm³
Korrosionsbeständigkeit
Mindestbestellmenge: 1 kg
Größe: Anpassbar
Baoji Hanz Metal Material Co., Ltd. ist einer der führenden Hersteller und Lieferanten von planaren Sputtertargets aus reinem Titan in China. Bitte zögern Sie nicht, hier in unserer Fabrik hochreine, planare Sputtertargets aus Titan zu kaufen. Alle kundenspezifischen Produkte zeichnen sich durch hohe Qualität und wettbewerbsfähige Preise aus.
Produktbeschreibung
Reinheitstitan-Planar-Sputtertarget Unsere Standard-Sputtertargets für Dünnfilme sind als Monoblock oder gebondet mit planaren Targetabmessungen, Lochbohrungspositionen und Gewinden, Abschrägungen, Rillen und Trägern erhältlich, die sowohl für den Einsatz mit älteren Sputtergeräten als auch mit den neuesten Prozessgeräten, wie großflächigen Beschichtungen für Solarenergie oder Brennstoffzellen und Flip-Chip-Anwendungen, konzipiert sind. Es werden auch Ziele in Forschungsgröße sowie kundenspezifische Größen und Legierungen hergestellt. „Sputtern“ ermöglicht die Dünnschichtabscheidung eines ultrahochreinen metallischen oder oxidischen Sputtermaterials auf einem anderen festen Substrat durch kontrollierte Entfernung und Umwandlung des Targetmaterials in eine gerichtete Gas-/Plasmaphase durch Ionenbeschuss. Wir können neben rechteckigen, ringförmigen oder ovalen Zielen nahezu jeder Größe auch Ziele außerhalb dieses Bereichs anbieten. Materialien werden mithilfe von Kristallisations-, Festkörper- und anderen Ultrahochreinigungsprozessen wie Sublimation hergestellt. Wir gießen auch alle Seltenerdmetalle und die meisten anderen modernen Materialien in Stangen-, Stangen- oder Plattenform sowie in andere maschinell bearbeitete Formen. Wir produzieren Titan auch in Form von Stäben, Pulver und Platten.
| Produktname | Sputtertarget aus Aluminium- und Titanlegierung |
| Material | Ti 6Al 4V |
| Grad | Note5 |
| Reinheit | 99.99% |
| Besonderheit | Korrosionsbeständig, hochtemperaturbeständig, leichtes Material |
| Spezifikationen | Durchmesser: 79 x 41 x 52 mm |
| Anwendung | Es wird zur Herstellung von Sinterschiffchen, Heizelementen für Hochtemperaturöfen und Hitzeschilden verwendet. die Mikroelektronik, Flachbildschirme, Datenspeicherung, optische Glasbeschichtung und andere Branchen |
Nutzungsszenario
Halbleiterbereich
Metallverbindungsschicht: Bei der Herstellung von VLSI-Chips können flache Sputtertargets aus reinem Titan zur Herstellung von Metallverbindungsschichten verwendet werden. Titan ist eines der am häufigsten verwendeten Barrierefilmmaterialien, das die gegenseitige Diffusion zwischen verschiedenen Metallschichten wirksam verhindern, die Geschwindigkeit, Stabilität und Zuverlässigkeit des Chips verbessern kann und für die Leistungsverbesserung von Halbleiterbauelementen von großer Bedeutung ist


Anzeigefelddomäne
Transparente leitfähige Schicht: Kann verwendet werden, um eine transparente leitfähige Schicht für Flüssigkristallanzeigen (LCD) und organische Leuchtdioden (OLED) herzustellen. Der Sputterfilm aus reinem Titan verfügt über eine gute elektrische Leitfähigkeit und optische Eigenschaften, die eine effiziente Ladungsübertragung bei gleichzeitig hoher Lichtdurchlässigkeit ermöglichen und den Anzeigeeffekt und die Reaktionsgeschwindigkeit des Anzeigefelds verbessern.
Bereich medizinische Geräte
Oberflächenbeschichtung: Kann zur Oberflächenbeschichtung von künstlichen Knochen, Zähnen, Herzklappen und anderen medizinischen Implantaten verwendet werden. Reines Titan weist eine gute Biokompatibilität und Korrosionsbeständigkeit auf, und der Sputterfilm aus reinem Titan kann die Biokompatibilität und Verschleißfestigkeit von Implantaten verbessern, die Stimulation und Schädigung des menschlichen Gewebes verringern und die Lebensdauer von Implantaten verlängern.

Unsere Vorteile
1. Vorteile der Technologieforschung und -entwicklung:
AFortgeschrittener Produktionsprozess: Das Unternehmen beherrscht fortschrittliche Schmelz-, Schmiede-, Pulvermetallurgie- und andere Produktionsprozesse, um die hohe Qualität der ebenen Sputtertargets aus reinem Titan sicherzustellen. Beispielsweise können Titantargets mit hoher Reinheit und geringem Verunreinigungsgehalt durch genaue Steuerung von Schmelztemperatur, -zeit und -atmosphäre erhalten werden. Der Schmiedeprozess kann die Struktur des Titantargets verbessern, seine Dichte und Festigkeit erhöhen und es beim Sputtern stabiler machen.
2. Produktqualitätsvorteil:
Zur umfassenden Prüfung und Überwachung von Rohstoffen, Halbfertigprodukten im Produktionsprozess und Fertigprodukten wurde ein strenges Qualitätskontrollsystem eingerichtet. Einsatz fortschrittlicher Prüfinstrumente und -methoden wie Elektronenmikroskopie, Energiespektrumanalyse, Röntgenbeugung usw., um sicherzustellen, dass die Produktqualität internationalen Standards und Kundenanforderungen entspricht
3. Vorteile des maßgeschneiderten Service:
Entsprechend den Bedürfnissen der Kunden können wir eine Vielzahl unterschiedlicher Spezifikationen, Formen und Größen von flachen Sputtertargets aus reinem Titan herstellen, um den individuellen Bedürfnissen der Kunden gerecht zu werden. Ganz gleich, ob es sich um ein kleines Laborobjekt oder ein großes industrielles Produktionsobjekt handelt, das Unternehmen kann die passenden Produkte liefern. Das Unternehmen kann seinen Kunden auch Kleinserien-Testproduktionsdienstleistungen anbieten, um Kunden bei der Produktentwicklung und -prüfung zu unterstützen.
FAQ
F1: Was ist ein planares Sputtertarget aus Fabrik-hochreinem Titan?
A1: Es handelt sich um ein planares Sputtertarget vom Plattentyp-, das aus hoch-reinem Titan als Rohmaterial durch Schmieden, Walzen und Präzisionsbearbeitung hergestellt wird. Es ist eine Kernkomponente für die Vakuum-Sputter-Beschichtung und wird in strikter Übereinstimmung mit den Produktionsstandards der Fabrik hergestellt, um eine stabile Qualität und Chargenkonsistenz zu gewährleisten.
F2: Was sind die üblichen Reinheitsgrade der Sputtertargets aus hochreinem Titan in Ihrer Fabrik?
A2: Die gängigen Reinheitsgrade sind 99,9 % (3N), 99,99 % (4N), 99,995 % (4N5) und 99,999 % (5N). Wir bieten auch maßgeschneiderte Spezifikationen für ultrahohe Reinheit entsprechend den spezifischen Anforderungen der Kunden und industriellen Anwendungsszenarien.
F3: Was sind die herkömmlichen Formen und Größen der planaren Titan-Sputtertargets?
A3: Die herkömmlichen Formen sind quadratische, rechteckige und kreisförmige ebene Platten. Länge, Breite, Dicke und Toleranz können nicht-standardmäßig angepasst werden. Unsere Fabrik unterstützt Präzisionsbearbeitungen wie Nuten und Bohren, um den Installations- und Nutzungsanforderungen verschiedener Sputtergeräte gerecht zu werden.
F4: In welchen Industriebereichen werden die Titan-Sputtertargets Ihrer Fabrik hauptsächlich eingesetzt?
A4: Unsere Titan-Sputtertargets in Fabrikqualität werden häufig in Halbleitern, optischen Beschichtungen, Bildschirmen, dekorativen Beschichtungen, Hardware-Werkzeugen, elektronischen Bauteilen, neuen Energiebeschichtungen und anderen Industriebereichen eingesetzt und sind bei in- und ausländischen Fabrikkunden gut anerkannt.
F5: Was sind die Hauptvorteile der planaren Targets aus hochreinem Titan in Ihrer Fabrik?
A5: Mit hoher Reinheit, geringem Verunreinigungsgehalt, gleichmäßiger Körnung, hoher Dichte, stabiler Sputterrate, gleichmäßiger und dichter Beschichtungsschicht und langer Lebensdauer werden unsere Targets in fortschrittlichen Fabrikproduktionslinien hergestellt, die eine stabile Leistung und Chargenkonsistenz gewährleisten.
F6: Bietet Ihr Werk einen Kupferrücken-Bindeservice für Titan-Sputtertargets an?
A6: Ja, unser Werk unterstützt Kupfer-Rückplattenbindungen und Schweißverstärkungen. Dieser Prozess kann die elektrische und thermische Leitfähigkeit des Targets effektiv verbessern, sich an die langfristige kontinuierliche Produktion von Magnetron-Sputtergeräten anpassen und das Risiko einer Beschädigung des Targets während des Einsatzes verringern.
F7: Welche Oberflächen- und Verpackungsstandards gelten für die Produkte Ihrer Fabrik?
A7: Die Produktoberfläche wird hochglanzpoliert oder präzise gefräst, ohne Oxidation, Risse oder Verunreinigungen. Für die Verpackung verwenden wir vakuumunabhängige Verpackungen, um Feuchtigkeit und Oxidation zu verhindern, die sich hervorragend für den Exporttransport und die Langzeitlagerung in Fabriken eignen.
F8: Kann Ihr Werk Materialinspektionsberichte vorlegen?
A8: Ja, wir können begleitende Inspektionszertifikate bereitstellen, einschließlich eines Berichts über die Analyse der chemischen Zusammensetzung, eines metallografischen Testberichts, eines Dimensionsinspektionsberichts usw. Sowohl werksinterne Inspektionen als auch Inspektionen durch Dritte sind verfügbar, um die Qualitätsinspektionsanforderungen der Fabriken der Kunden zu erfüllen.
F9: Wie ist der Lieferzyklus der Bestellungen Ihrer Fabrik?
A9: Für herkömmliche Spezifikationen verfügen wir über einen Lagerbestand und können schnell liefern. Für nicht-standardisierte kundenspezifische Größen und spezielle Prozessaufträge ordnen wir die Produktion entsprechend der Produktionskapazität des Werks und liefern pünktlich, wie in der Bestellung vereinbart.
F10: Unterstützt Ihr Werk kundenspezifische Anpassungen und OEM-Dienste?
A10: Ja, unsere Fabrik unterstützt die individuelle Anpassung gemäß Zeichnungen vollständig, einschließlich Größe, Toleranz, Oberflächenbehandlung, Spezialschnitt und Tiefenbearbeitung. Wir können auch OEM-Dienstleistungen anbieten, um den individuellen Anforderungen der Fabriken und Sputtergeräte verschiedener Kunden gerecht zu werden.
Unser planares Sputtertarget aus Reinheitstitan in Massenproduktion, kurze Lebensdauer, hohe Qualität. Wenn Sie Bedarf an einem planaren Sputtertarget aus reinem Titan haben, kontaktieren Sie uns bitte rechtzeitig.
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